拋光液過濾工藝流程
CMP,即Chemical Mechanical Polishing,化學(xué)機(jī)械拋光。CMP技術(shù)所采用的設(shè)備及消耗品包括:拋光機(jī)、拋光漿料、拋光墊、后CMP清洗設(shè)備、拋光終點(diǎn)檢測(cè)及工藝控制設(shè)備、廢物處理和檢測(cè)設(shè)備等。
CMP拋光液是以高純硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品,廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。
過濾目的:
去除顆粒、凝膠等雜物;
過濾要求:
1.濾材溶出物低、無介質(zhì)脫落;
2.去雜能力強(qiáng),壽命長;
3.高流量,機(jī)械強(qiáng)度高。
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